第3期研究戦略 平成24年度版

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129第三部ナノテクノロジー・材料・製造分野技術トピックスマイクロ波プラズマCVDによる大面積グラフェン合成技術の開発(ナノテクノロジー)高予測性シミュレーション技術の開発(ナノテクノロジー)グラフェンは、資源的制約がなく、高電気伝導、高キャリア易動度などの特性により新しい材料として期待されています。グラフェンを材料として使うためには、高品質のグラフェンの大面積合成技術の確立が必要とされています。ロールツーロールマイクロ波プラズマCVD合成装置を試作し比較的低温でのグラフェンの連続合成を実現しました。高予測性シミュレーション技術は材料の合理的設計を可能にする技術として注目されています。このような高予測性シミュレーション技術を液晶系に適応し、新しい秩序構造を発見しました。このような結果を基にさまざまな液晶セルにおける液晶の秩序構造、動的挙動(特に電場応答)に対する理解の深化や、設計指針の提案できます。A1サイズ(A3x4枚) 透明導電シートマイクロ波プラズマCVDで合成したグラフェンを利用した静電容量型タッチパネル計算によって発見されたコレステリックブルー相液晶セルの秩序構造。

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