技術宝箱

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概 要標準・計測3 製品化に必要な課題 ①目標とする市場技術分野・有機材料等のソフトな試料の表面を加工するイオンビーム照射装置・二次イオン質量分析(SIMS)用の一次イオンビーム源 ②事業化に必要な技術・真空部品や真空機器に関する技術・イオンビームに関する技術 ③事業化に必要な検証・(一般的な真空装置に設置した状態での)安定性の検証・メンテナンス頻度の検証(エレクトロスプレー部の劣化、イオン液体の回収など)・コスト検証4 研究成果の特長 ①ポイント・“イオン液体”という導電性の液体をエレクトロスプレーすることにより、イオンビームを生成する。イオンビーム中には、以下の2種類のイオン種が存在する。 (1)質量電荷比が1000程度のクラスターイオン(直径:1 nm程度) (2) 質量電荷比が10 5~10 6程度の帯電液滴(直径:数10 nm~数100 nmオーダー)・従来技術では、クラスターイオンのビーム種は数種類に限られていたが、エレクトロスプレーを用いることで、イオン種が多様化できる。・“イオン液体”は、真空中でもエレクトロスプレーできるため、イオンビームの高集束化も可能となり、表面分析における面分解能あるいは加工精度が向上する。 ②目的及び効果・有機物やバイオ試料等にビームを照射し、表面分析に応用する。・二次イオン収率が高いため、高感度な二次イオン質量分析(SIMS)の実現。・照射した表面部分のみを削り、それ以外の部分の損傷を抑制するソフト加工技術。5 特許関連情報 ①権利化済特許なし ②出願中特許1.特開2009-87594 イオンビーム発生装置2.特願2011-001903 イオンビーム発生装置及び方法 ③試作品・試料提供:無 許諾実績:無 実施許諾:可6 研究者情報所 属:計測フロンティア研究部門(つくば中央)氏 名:藤原 幸雄 / Yukio FUJIWARA連絡先:E-mail: yukio-fujiwara@aist.go.jp41. 細くて大質量のイオンビーム発生装置247

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