技術宝箱

150/333

特 許24. ガラスなどの透明材料の大面積・深溝レーザー微細加工1. 特許第3012926号 登録平成11年12月17日(出願平成10年9月21日)・権利者 独立行政法人産業技術総合研究所・発明の名称 透明材料のレーザー微細加工法・要約 レーザー波長に強い吸収を持つ流動性物質を透明材料裏面に接触させ、透明材料表面からレーザーを照射して、透明材料を微細エッチングする方法。 ◆背景光の吸収が少ない透明物質は、レーザーアブレーションやレーザー溶融法などの直接的なレーザーエッチング法を利用する加工は困難であることが知られている。 ◆発明が解決しようとする課題レーザー照射で透明材料を簡便にかつ精密に微細加工できる方法を提供する。 ◆課題を解決するための手段レーザー波長に強い吸収を持つ流動性物質を透明材料裏面に接触させ、透明材料表面からレーザーを照射して、透明材料を微細エッチングする。請求項1流動性物質を透明材料の裏面に接触させ、透明材料の表面から強度範囲が0.01J/cm 2/pulseから100J/cm 2/pulseまでのレーザーを照射することを特徴とする透明材料の微細加工法。・以下、請求項2から請求項6まで省略。2. 特許第4214233号 登録平成20年11月14日(出願平成16年3月25日)・権利者 独立行政法人産業技術総合研究所・発明の名称 透明材料の微細加工方法および微細構造体・要約 透明基板表面上にレーザー光を照射することにより同時に形成されているパターン化された有機薄膜とエッチング表面からなることを特徴とする構造体。 ◆背景通常、有機薄膜をパターンニングするためには、フォトリソグラフィー法が用いられている。 ◆発明が解決しようとする課題有機薄膜に微細加工が施された透明基板を得ること、透明基板の表面にパターン化された有機薄膜とエッチング表面からなる構造体及びその形成方法を提供する。 ◆課題を解決するための手段あらかじめ有機薄膜の層を透明基板表面に形成した後、レーザー波長に強い吸収を持つ流動性物質を透明基板の表面に接触させた状態で、前記有機薄膜とは反対側の透明基板にレーザーを照射する。請求項1透明基板表面に有機薄膜を形成した後、レーザー波長に強い吸収を持つ流動性物質を前記透明基板の表面に接触させた状態で、前記透明基板の有機薄膜とは反対側から0.01J/cm 2/pulseから100J/cm 2/pulseまでの強度のレーザーを照射することにより、前記透明基板上にパターン化された有機薄膜を形成すると同時に、前記透明基板がエッチングされた表面を形成することを特徴とする透明基板の微細加工方法。・以下、請求項2から請求項8まで省略。148中小企業のための技術宝箱特許情報

※このページを正しく表示するにはFlashPlayer9以上が必要です