産総研　研究組織と概要

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技術研究組合単層CNT融合新材料研究開発機構(TASC)● Technology Research Association for Single Wall Carbon Nanotubesカーボンナノチューブとグラフェンの応用技術開発を推進【 設立 】2010年5月【 理事長 】古河 直純 (日本ゼオン株式会社 代表取締役社長)【 産総研加入時期 】2010年5月 【 現組合員 】8社・1機関(2012年9月1日現在) 産総研の貢献•ナノチューブ応用研究センターが参画•湯村 守雄 副研究センター長がCNT事業部のプロジェクトリーダーとして、長谷川 雅考 研究チーム長がグラフェン事業部のプロジェクトリーダーとして、それぞれのプロジェクトをマネジメント•枢要な研究開発ポテンシャルでプロジェクトを推進•研究装置等のインフラを整備し、組合員へ提供•組合員企業からの出向研究員に対する技術指導尾池工業(株)、(株)カネカ、住友精密工業(株)、大日本印刷(株)、帝人(株)、東レ(株)、日本ゼオン(株)、日本電気(株)、(独)産業技術総合研究所【 目的 】組合員の協同による単層カーボンナノチューブ、グラフェン及びナノカーボン融合新材料の実用化に関する試験研究、その他組合員の技術水準の向上及び実用化を図るための事業を行うことを目的とする。【 研究概要 】1.CNTの形状、物性等の制御・分離・評価技術の開発 2.CNTを既存材料中に均一に分散する技術の開発 3.ナノ材料簡易自主安全管理技術の構築 4.グラフェンの高品質化による透明導電フィルムの技術開発 5.高周波帯域でのグラフェン電磁波吸収体の技術開発【実施プロジェクト名】・NEDOプロジェクト「低炭素社会を実現する革新的カーボンナノチューブ複合材料開発プロジェクト」・NEDOプロジェクト「革新的ナノカーボン材料先導研究開発/湿式プロセスによるグラフェンを活用した高周波帯域電磁波吸収体の研究開発」・NEDOプロジェクト「低炭素社会を実現する革新的カーボンナノチューブ複合材料開発プロジェクト(グラフェン基盤研究開発)/高性能フレキシブルグラフェン部材研究開発:グラフェン透明導電フィルムと高熱伝導性多層グラフェン放熱材」エネルギー分野多機能入力インターフェイス福祉機器アクチュエーターリチウム電池電極部材電池部材燃料電池システムキャパシタ電池電極導電性樹脂材料高強度炭素プリプレグ高強度炭素材料コンポジット形成高電気伝導システム高性能熱伝導材Liイオン集電体高機能材料分野導電性ゴム/フィルムOA機器ロール透明導電性フィルム太陽電池電極タッチパネル電子ペーパー無線給電シートCNTインク薄膜トランジスタ情報タグ赤外線イメージセンサ電子回路部品LSI-via配線メモリー配線センサー材料バイオ・ガスセンサ人体モニタリングCNT-MEMSロボット皮膚マイクロ電蓄デバイスマイクロ波シールド電磁波吸収材CNT電線ワイヤーハーネスCNT繊維次世代炭素繊維糸状・板状・網状半導体/金属分離形状物性制御均一分散カーボンナノチューブ[特徴]①細くて強い。②構造により半導体になる。③電気をよく伝える④熱をよく伝える⑤ガスをよく吸着する。エレクトロニクス分野エピゲノム技術研究組合● Epigenomics Technology Research Associationエピゲノム修飾のメカニズムを活用した創薬基盤技術開発を推進【 設立 】2010年9月【 理事長 】岡部 尚文 (株式会社未来創薬研究所 取締役)【 産総研加入時期 】2010年9月 【 現組合員 】4社・3機関(2012年9月1日現在)産総研の貢献•生命情報工学研究センター、バイオメディシナル情報研究センターが参画•エピゲノム情報解析基盤技術開発及びエピゲノム修飾の特異性を規定する非コードRNA機能の研究開発を推進(株)未来創薬研究所、協和発酵キリン(株)、興和(株)、シスメックス(株)、(一社)バイオ産業情報化コンソーシアム、(公財)がん研究会、(独)産業技術総合研究所【 目的 】組合員の協同によるエピゲノム創薬・診断に関する試験研究、その他組合員の技術水準の向上及び実用化を図るための事業を行うことを目的とする。【研究概要】1.エピゲノム修飾解析技術開発2.エピゲノム修飾と疾患とを関連づける基盤技術開発3.エピゲノム修飾を制御可能な低分子化合物の探索技術の開発【実施プロジェクト名】・NEDOプロジェクト「後天的ゲノム修飾のメカニズムを活用した創薬基盤技術開発プロジェクト」① 後天的ゲノム修飾解析技術開発前処理技術解読技術修飾部位同定技術疾病組織高速シーケンサ等AGGC*AGAC② 後天的ゲノム修飾と疾患との関連づけ関連づけ③ 探索的実証研究疾患原因の同定AGGC*AGAC(疾患)AGGCAGAC(治癒)シミュレーション天然物等創薬診断企業による基盤技術の活用後天的ゲノム修飾に起因する疾患に対する医薬品開発や診断を効率的に行うための産業基盤を構築ヒストンDNAメチル化修飾アセチル化修飾情報解析技術後天的ゲノム修飾制御正常疾患CNT材料による応用展開イメージグラフェン材料による応用展開イメージ45研究組織と概要産総研が参画する技術研究組合

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