2012年研究カタログ
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■ 産総研からの主な参画研究者 ナノエレクトロニクス研究部門 原史朗 ■ 担当部署 情報通信・エレクトロニクス分野研究企画室 安田哲二 ミニマルファブ技術研究組合組 織 概 要研 究 目 的研 究 概 要産総研の貢献謝 辞【設立】2012年5月【理事長】原田 康之(株式会社プレテック 取締役会長)【現組合員】21社・1機関(2012年7月現在)(株)プレテック、リソテックジャパン(株)、(株)三明、(株)ピーエムティー、不二越機械工業(株)、フジ・インバック(株)、坂口電熱(株)、アイチシステム(株)、タツモ(株)、(株)フジキン、(株)堀場エステック、(株)デザインネットワーク、サンヨー(株)、大成建設(株)、(株)ロジックリサーチ、(株)ジーダット、TOOL(株)、横河フィールドエンジニアリングサービス(株)、岡本硝子(株)、(株)米倉製作所、光洋サーモシステム(株)、(独)産業技術総合研究所 ほとんど全てのデバイス1個のサイズをカバーする0.5インチウェハを製造単位として、そのウェハに対応した幅30 cmの装置を開発し,かつ局所クリーン化技術でクリーンルームを不要とすることで,設備投資と運用経費を大幅に削減する超小型製造システム(ミニマルファブ)を実現します。1. 半導体微細加工に必要な主要ミニマル製造装置群の開 発を行います。2. ウェハ、バルブ等、部品部材の小型化開発を行います。3. 多品種少量生産に対応した枚葉処理半導体プロセス技 術の開発を行います。● 産総研職員がリーダーとして経産省プロジェクトをマネジメント。●ミニマルファブコンセプトを提案、広く発信。● ファクトリーシステムの中核となるウェハ搬送系を独自開発。コア技術として提供。● ミニマル装置群の開発を主導。特に難易度の高いイオン注入などのプロセス装置で開発を主体的に進めます。● ミニマル製造装置を用いる半導体プロセス技術の開発と実証。● ミニマルファブを、様々な研究成果を注入するイノベーションプラットフォームへと発展させ、産業界へ提供。 本事業は経済産業省のエネルギー使用合理化技術開発等委託費「革新的製造プロセス技術開発(ミニマルファブ)」により行なわれているものです。0.5インチウェハを処理する幅30 cmの装置群。局所クリーン化技術でクリーンルームが不要となるMinimal DLPExposure MachineMinimal ResistCoating MachineMinimal ResistDeveloping MachineMinimal MaskAligning Machine● 研究拠点つくば中央 510特別展示第4会場X-42X-42

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