2012年研究カタログ
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■ 産総研からの主な参画研究者 バイオメディシナル情報研究センター 廣瀬哲郎 生命情報工学研究センター 光山統泰 ■ 担当部署 ライフサイエンス分野研究企画室 田村具博 エピゲノム技術研究組合組 織 概 要研 究 目 的【設立】2010年9月【理事長】岡部 尚文(株式会社未来創薬研究所 取締役)【現組合員】4社・3機関(2012年7月現在)(株)未来創薬研究所、協和発酵キリン(株)、興和(株)、シスメックス(株)、(一社)バイオ産業情報化コンソーシアム、(公財)がん研究会、(独)産業技術総合研究所 組合員の協同により、後天的ゲノム修飾のメカニズムを活用した創薬基盤技術の開発を行うとともに、組合員の技術水準の向上及び革新的な抗がん剤・診断薬の開発を目指すことを目的としています。研 究 概 要① エピゲノム修飾解析技術開発② エピゲノム修飾と疾患とを関連づける基盤技術開発③ 探索的実証研究産総研の貢献● 産総研職員が産総研臨海センターの研究ポテンシャルを用いてプロジェクト研究を推進実施プロジェクト 本事業は独立行政法人新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)の「後天的ゲノム修飾のメカニズムを活用した創薬基盤技術開発プロジェクト<プロジェクトリーダー:油谷浩幸(東京大学先端科学技術研究センター)>」により行われているものです。プロジェクトの概念図① エピゲノム修飾解析技術開発前処理技術解読技術修飾部位同定技術疾病組織高速シーケンサ等AGGC*AGAC② エピゲノム修飾と疾患との関連づけ関連づけ③ 探索的実証研究疾患原因の同定AGGC*AGAC(疾患)AGGCAGAC(治癒)シミュレーション天然物等創薬診断企業による基盤技術の活用エピゲノム修飾に起因する疾患に対する医薬品開発や診断を効率的に行うための産業基盤を構築ヒストンDNAメチル化修飾アセチル化修飾情報解析技術エピゲノム修飾制御正常疾患● 研究拠点臨海副都心センター500特別展示第6会場X-32X-32

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