2012年研究カタログ
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■ 研究担当:廣島洋/銘苅春隆/尹成圓 ■ 集積マイクロシステム研究センター グリーンナノデバイス研究チ-ム■ 連携担当:綾信博 ナノインプリント簡便な超微細パターン形成手法研究のポイント研究のねらい研究内容連携可能な技術・知財 ●ナノメータレベルの超微細パターン形成 ●3次元パターン形成を利用したプロセス簡略化や機能付与 ●低消費電力、低環境負荷、低コストのパターン形成 ナノインプリントは、MEMS作製等におけるステッパを代替することができます。その際、電子線リソグラフィなみの超微細パターン形成が可能です。また、所望の3次元形状のパターンを形成できるため、デバイスによっては作製プロセスを大幅に簡略化可能です。ナノインプリントは他のリソグラフィと比べて低消費電力、低環境負荷、低コストという特徴も有しています。このグリーンなナノパターン形成方法であるナノインプリント技術の開発を進め、ナノインプリントの特徴を生かしたデバイス開発を目指します。 光ナノインプリントではリソグラフィへの展開を図っています。低コストを実現するために非真空環境で高速で信頼性の高いプロセスを実現するために凝縮性ガスを利用するプロセスを提案しています。この手法によりバブルのない良好なインプリントを行うことが可能です。 熱ナノインプリントの例としては、配線パターン形成が上げられます。インプリントの3次元パターン形成を利用し、配線用多段構造を一気に作り込み、プロセスステップを大幅に省略することが可能になります。このようなインプリント全般に渡る研究を行っています。● 特許3588633「インプリントリソグラフィー用移動ステージ」(2004/8/27)● 特許3700001「インプリント方法および装置」 (2005/7/22)● 特許4595120「裏面加圧によるインプリント方法および装置」(2010/10/1)● 特許 5004225「インプリントリソグラフィ用モールド作製方法」(2012/6/1)���������������������������������凝縮性ガスを利用した線幅45nmのパターン形成1回のインプリントによる配線用多段構造の作製● 研究拠点つくば東353ナノテクノロジー・材料・製造分野東会場N-96N-96

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