2012年研究カタログ
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研究のポイント研究のねらい研究内容連携可能な技術・知財 ●つくばイノベーションアリーナ[TIA]のナノエレ向け最先端研究インフラストラクチャ ●数多くのプロジェクトによる新規ナノデバイス開発を支援 ●高度な微細加工技術を基にした技術プラットフォーム構築 スーパークリーンルーム(SCR)産学官連携研究棟の300mmφ集積実証ライン及び100mmφ研究開発ラインの二つのプロセス・評価設備群をTIAにおけるナノエレクトロニクスの最先端研究インフラストラクチャとして運営しています。保有するCMOSプロセスモジュール技術を基に、新規ナノデバイス創出に向け数多くのプロジェクトの研究開発を支援するとともに、闊達な交流を通じた実践的な人材育成の場としての活用を推進しています。新機能デバイスの開発がフレキシブルに進められ、それらの融合が図られるよう高度な技術プラットフォームの構築をめざします。技術プラットフォーム構築とその展開●300mmφ集積実証ライン・ 45nm世代CMOSフロントエンド、バックエンドプロセスモジュールを基にした集積プロセスプラットフォーム構築・ 液浸露光などの極微細加工技術の高度化と先端光デバイス加工サービスへの展開・ フォトニクス用アモルファスシリコン光回路形成技術構築●100mmφ研究開発ライン・ 可変矩形電子線(VSB-EB)描画、高誘電率絶縁膜、金属ゲート等を用いた極微細MOSFET、光回路の基盤的研究開発プラットフォーム●300mφCMOSプロセスモジュール技術●極微細MOSFETプロセスモジュール技術●シリコンフォトニクスプロセスモジュール技術謝辞: TIA-SCR拠点で研究開発を展開する以下のプロジェクトとの連携、及び産総研戦略予算により技術構築を行っています。 最先端研究開発支援プログラム(GNC, PETRA, CSIS) NEDOプロジェクト(LEAP, EIDEC)SCR棟先端プロセス設備群と内部風景 [上図]先端リソグラフィ設備と微細構造の例 [下図] ■ 研究担当:堀川剛/森雅彦/品田賢宏/佐野作 ■ ナノデバイスセンター 集積実証室■ 連携担当:秦信宏 スーパークリーンルーム● 研究拠点つくば西254情報通信・エレクトロニクス分野第3会場I-89I-89

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