2012年研究カタログ
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■ 研究担当:原史朗/前川仁/池田伸一/ソマワン クンプアン/吉田知也/長尾昌善/ 中野禅/小木曽久人/清水禎樹/大平俊行/増井慶次郎/他 ■ ナノエレクトロニクス研究部門 ミニマルシステムグル-プ/他■ 連携担当:安藤淳 ミニマルファクトリー研究のポイント研究のねらい研究内容連携可能な技術・知財 ●ミニマルファブ構想に基づいた小規模工場で半導体チップを省エネ生産 ●ハーフインチウエハの一個流しで、「必要なとき必要なだけ」 ●ファブシステム研究会とミニマルファブ技術研究組合を設立して開発を協力に推進 産総研では、多品種少量および変種変量デバイス生産ニーズに適応した、新しい半導体生産システムの姿(ミニマルファブ構想)を提案しています。工場ラインと試作ラインの投資規模を大幅にコンパクト化して行くことで、コスト競争力だけでなく、研究開発直結型であることを高付加価値の源泉とし、一方で変種変量の潜在市場の獲得を目指します。このハーフインチウエハ対応インダストリーを実現するために、企業と産総研が協力してファブシステム研究会とミニマルファブ技術研究組合を設立し、超小型化技術を結集した実験生産システムの構築を進めています。 ミニマルファブのコア技術として、従来の密閉化搬送システムの欠点であった、微粒子発生抑制とガス遮断を両立する新技術:超小型ミニマル密閉型搬送システム(PLAD)を開発しました。 その一方で洗浄装置、レジスト塗布装置、露光装置、現像装置、エッチング装置、イオン注入装置、CVD装置、プラズマ装置など、ミニマルファブに必要なミニマル装置群の開発も同時に進めています。各ミニマル装置とPLADシステムを結合することで、大気暴露による汚染と酸化のない超高品質製造ラインを構築することができます。ファブシステム研究会http://unit.aist.go.jp/neri/mini-sys/fabsystem/● ミニマル規格(ウエハ、ミニマル装置群、要素機器、ソフトウェア、全体システムなどの共通仕様)を研究会で策定・共有● 商標第5369151号(2010/11/19)「ミニマル」等多数Type 2: �������������������� (1/20) ���������������������������� Type 1: ��������������� ����5��� ������0.5" ����������������� ����5�� 0.3 m 10 m 200 m 2 m ミニマルファブ構想に基づく生産システム���� �� ��� ��� ���������� ����������� ���������� ���� XXXX�������������� ��12.5 mm ���������������� ��42 mm (������������) �������������� ��������� PLAD �������� CVD ��������� �300 mm��� PLAD PLAD PLAD PLAD PLAD PLAD PLAD PLAD PLAD 研究開発中のミニマルファブシステム● 研究拠点つくば中央231情報通信・エレクトロニクス分野第3会場I-66I-66

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