2012年研究カタログ
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■ 研究担当:河島整/須田悟史/Cong Guangwei/鈴木恵次郎/Kim Sang-hun ■ ネットワークフォトニクス研究センター ナノフォトニクス集積研究チーム■ 連携担当:挾間壽文 光ネットワーク超低エネルギー化技術 ̶ 光パス・スイッチ研究のポイント研究のねらい研究内容連携可能な技術・知財 ●シリコンフォトニクス技術による回線交換機能の小型化と集積化 ●回線交換方式によってトラフィックの拡大と省エネルギーを両立 ●高精細映像コンテンツの流通を後押し ネットワークトラフィックの一部を、ネットワークノードで光のまま転送する仕組みが、実用化の途についています。特に、映像系大容量データについては、光のまま(エンドツーエンド)で伝送していくことが、ネットワークの効率的運用につながります。光パス・ネットワーク上でダイナミックに経路を切り替えられるように、100ポート以上の入出力ポートを備えた光パス・スイッチが求められています。量産可能な、大規模光パス・スイッチを目指して、シリコン光導波路技術を用いた集積型光経路スイッチの研究開発を進めています。 シリコンフォトニクス技術は、SOI(Silicon-On-Insulator)基板上に、シリコンを導波路コアとする光回路を作製する技術です。産総研では、マッハツェンダー干渉計をクロスバー・スイッチとするマトリックス型光パス・スイッチの開発を行っています。シリコン光導波路では漏話が起き易いため、クロスバー・スイッチと導波路交差部、各々の漏話特性を改良することに重点を置いた研究を行っています。また、光回路制御用CMOSのモノリシック集積、実用的なモジュール実装についても、試作と検討を進めています。●シリコン光導波路の設計並びに作製技術●光入出力インターフェース技術●特許出願情報 特開2011-170123 (2011/09/01)「光導波路交差構造」謝辞: 本研究の一部は、文部科学省イノベーションシステム整備事業によるものです。In2 Out1 Out2 In1 Intersection SW1 SW3 SW2 SW4 700 �m 低漏話交差部とカスケード接続を組み合わせた低漏話型クロスバー・スイッチ1.8 mm0.9mm12341’2’3’4’Si導波路チップと、これを実装した4×4スイッチ装置● 研究拠点つくば中央222情報通信・エレクトロニクス分野第2会場I-57I-57

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