2012年研究カタログ
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■ 研究担当:鳥塚健二/松嶋功/植村禎夫/屋代英彦/欠端雅之/高田英行/吉富大 ■ 電子光技術研究部門 超短パルスレーザーグループ■ 連携担当:小森和弘 高品位・省エネ加工をひらく超短パルスレーザー技術研究のポイント研究のねらい研究内容連携可能な技術・知財 ●超短パルスレーザーは研究用から産業用に移りつつある技術 ●超高速高ピーク強度を利用した非熱的な高品位加工での実用化が期待 ●情報通信・計測応用に向けてもアト秒精度タイミング制御などで新領域を開拓 超短パルスレーザーの未踏技術を開発し新しい光科学・技術分野を開拓することを目標として研究を行っています。光パルス発生の高出力化・高効率化、さまざまな波長域への拡大と短パルス化、タイミングや光パルス内光波位相のコントロール、等の技術を開発して来ました。これらの新しい光源技術は、難加工材料の加工等を通じて省資源な製造への貢献が期待されています。また、光多値位相変調等を通じての光通信の高効率化への寄与や、光による電子操作等を利用した新しい研究開発ツールとしての幅広い分野での応用も期待されています。 超短パルスレーザーは10フェムト秒(1fs=1000 兆分の1秒)以下に至る極めて短いパルス光を発生する装置で、光通信デバイスの開発や光受容過程の解明など、研究や開発用に広く用いられ技術の進歩に貢献してきました。我々は、超短パルスレーザーに関連する様々な研究蓄積を基に、近年は、Ybドープ固体レーザーや光波位相制御などに関わる新しい展開も先導しています。これらの技術によって、光が集中することで得られる高強度性を利用した加工・改質過程や、従来の限界を超えた精密計測、等での応用の拡大をはかっています。● 波長0.25-1.5μm域の各種フェムト秒パルスレーザー、高平均出力のYbドープ超短パルスレーザーを作製、評価する技術、パルスのタイミングと光波位相をフェムト秒以下の精度でコントロールする技術、高強度光の応用技術など● 欠端雅之, 西嶋一樹, 特許第4753063号, ”光電場波形制御方法および制御装置” など謝辞:本研究の一部は、JSTのCRESTによるものです。加工実験用超短パルスレーザーの構成例Ybドープファイバーの利用で高効率・高出力が可能。3波長同期パラメトリック増幅システム次世代の光源として、フェムト秒パルスの光電界を合成する研究をすすめています。● 研究拠点つくば中央209情報通信・エレクトロニクス分野第2会場I-44I-44

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