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2×2しゅうきこうぞう2×2周期構造
究極の薄さの窒化シリコン膜の形成に成功　（関連記事タイトル）
2001年12月20日
 ナノテクノロジー・材料・製造
 無
3〜4ぶんしそう3〜4分子層
究極の薄さの窒化シリコン膜の形成に成功　（関連記事タイトル）
2001年12月20日
 ナノテクノロジー・材料・製造
 無
CMOSCMOS
究極の薄さの窒化シリコン膜の形成に成功　（関連記事タイトル）
2001年12月20日
 ナノテクノロジー・材料・製造
 無
HIGH-Kざいりょうhigh-k材料
究極の薄さの窒化シリコン膜の形成に成功　（関連記事タイトル）
2001年12月20日
 ナノテクノロジー・材料・製造
 無
LSILSI
究極の薄さの窒化シリコン膜の形成に成功　（関連記事タイトル）
2001年12月20日
 ナノテクノロジー・材料・製造
 無
N2/H2がすをもちいたちょくせつねつちっかぷろせすN2/H2ガスを用いた直接熱窒化プロセス
究極の薄さの窒化シリコン膜の形成に成功　（関連記事タイトル）
2001年12月20日
 ナノテクノロジー・材料・製造
 無
ULSIULSI
究極の薄さの窒化シリコン膜の形成に成功　（関連記事タイトル）
2001年12月20日
 ナノテクノロジー・材料・製造
 無
あとむてくのろじーけんきゅうたいアトムテクノロジー研究体(JRCAT)
究極の薄さの窒化シリコン膜の形成に成功　（関連記事タイトル）
2001年12月20日
 ナノテクノロジー・材料・製造
 無
あもるふぁすアモルファス構造
究極の薄さの窒化シリコン膜の形成に成功　（関連記事タイトル）
2001年12月20日
 ナノテクノロジー・材料・製造
 無
げーとゲート
究極の薄さの窒化シリコン膜の形成に成功　（関連記事タイトル）
2001年12月20日
 ナノテクノロジー・材料・製造
 無
しりけーとシリケート
究極の薄さの窒化シリコン膜の形成に成功　（関連記事タイトル）
2001年12月20日
 ナノテクノロジー・材料・製造
 無
ちゃねるチャネル
究極の薄さの窒化シリコン膜の形成に成功　（関連記事タイトル）
2001年12月20日
 ナノテクノロジー・材料・製造
 無
とらんじすたトランジスタ
究極の薄さの窒化シリコン膜の形成に成功　（関連記事タイトル）
2001年12月20日
 ナノテクノロジー・材料・製造
 無
きゅうしゅん急峻　（きゅうしゅん）
究極の薄さの窒化シリコン膜の形成に成功　（関連記事タイトル）
2001年12月20日
 ナノテクノロジー・材料・製造
 無
しゅうたん終端　（しゅうたん）
究極の薄さの窒化シリコン膜の形成に成功　（関連記事タイトル）
2001年12月20日
 ナノテクノロジー・材料・製造
 無
たんいつぶんしそう単一分子層
究極の薄さの窒化シリコン膜の形成に成功　（関連記事タイトル）
2001年12月20日
 ナノテクノロジー・材料・製造
 無
ちっかしりこんまく窒化シリコン膜
究極の薄さの窒化シリコン膜の形成に成功　（関連記事タイトル）
2001年12月20日
 ナノテクノロジー・材料・製造
 無
とんねるこうか電子のトンネル効果
究極の薄さの窒化シリコン膜の形成に成功　（関連記事タイトル）
2001年12月20日
 ナノテクノロジー・材料・製造
 無
ISISO (国際標準化機構)
セキュリティ機能を組み込んだDR圧縮を測量地図配信で実用化　（関連記事タイトル）
2001年10月02日
 情報通信・エレクトロニクス
 無
JBIGほうしきJBIG (Joint Bi-level Image experts Group) 方式
セキュリティ機能を組み込んだDR圧縮を測量地図配信で実用化　（関連記事タイトル）
2001年10月02日
 情報通信・エレクトロニクス
 無

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