■□■ 産総研オープンラボ2012 事前登録受付中！ ■□■
産総研オープンラボは、企業、大学、公的機関などの皆様のための催しです。
全国の研究拠点から集めた約420の研究テーマをパネル展示等でご説明するとと
もに、つくばにある100の研究室（ラボ）を公開致します。また、産総研の産学
官連携の仕組みや知的財産の取り扱い等についてご説明致します。
個別の具体的な連携のご相談やご質問にもお答え致しますので、是非奮ってご
参加ください。
産総研オープンラボへの事前来場登録は10/24（水）まで、ラボ講演会予約は
10/18（木）まで受付中です！
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■□■ プレスリリース ■□■
9/26発表◆
省エネ技術を結集した次世代モジュール型グリーンデータセンターを構築
−従来のデータセンターに比べ消費電力を30%削減可能に−
9/25発表◆
ポリマー上でシリコンの性能を超えるトランジスタを作製
−ポストシリコン材料のバックエンド集積化技術−
《ポイント》
・シリコン基板上に安価な耐熱性ポリマーを用いて高性能化合物半導体層を転写
・ポリマーに接合した化合物半導体層を使って400℃以下の低温でシリコンの性能
を超えるトランジスタを作製
・ポストシリコン材料とシリコン大規模集積回路を融合した高性能・多機能デバイ
スの開発を期待
9/25発表◆
グラフェンの新しい伝導制御技術を開発
−ヘリウムイオン照射で室温動作スイッチングトランジスタを実現−
《ポイント》
・グラフェンに低密度の人工結晶欠陥を導入し電気伝導の変調を実現
・欠陥導入されたグラフェントランジスタで初めて室温での電流のオン・オフ動作
に成功
・将来の超低電圧動作CMOSのチャネル材料として期待
9/25発表◆
トンネル電界効果トランジスタの素子動作モデルを開発
−超低消費電力の大規模集積回路の設計に貢献−
《ポイント》
・主要な既存回路シミュレーターへの組み込みが可能
・電界分布を正確に予測する新手法により、トンネル電流を高精度に計算
・これまでの限界を打ち破る、低消費電力回路の実現に貢献
9/20発表◆
調光ミラーの鏡状態と透明状態の切り替えに対する耐久性を飛躍的に向上
−オフィスビルなどの冷房負荷の大幅な低減に期待−
9/18発表◆
電子機器の長期信頼性に貢献するエポキシ樹脂の製造技術
−過酸化水素を用いた酸化技術によるクリーンな合成法−
《ポイント》
・高性能触媒により、高効率で高純度なエポキシ樹脂原料の合成法を開発
・塩素を使わないため、半導体封止材用途に有利なエポキシ樹脂製造を実現
・長期信頼性の高い半導体基板の開発に寄与
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■□■ 最近の研究成果 ■□■
○産総研広報誌（産総研TODAY）から最近の研究成果を紹介します。
・体の中で狙った機能性分子をつくる技術
・相反する制御機能を担う機能性RNAを発見
・電子相転移を用いた新原理トランジスタ
・白金触媒の酸化能力を向上させる調製技術
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■□■ 特許紹介（技術移転） ■□■
○バイオマス派生物の環境調和型水素化反応 [ PDF：1MB ]
トウモロコシの有機系廃棄物廃棄物から得られるフルフラールを原料として、
工業的に重要なフルフリルアルコールなどの製造を目的としています。
二酸化炭素で加圧した水溶媒と固体触媒を利用することで、これまでの方法よりも
効率的なフルフラールの水素化技術開発を行いました。
［適用分野］環境負荷低減型有機合成技術／バイオマスリファイナリ—技術
○肩関節のような動きをする多極球面モーター [ PDF：1MB ]
1台で肩や手首関節のような動きをする球面モーター。
3台のモーターを1台の球面モーターで置き換えることで、球面駆動システムの構造が
簡単になり、多軸工作機械をはじめとする機械システムを小型・軽量、高精度化が実
現できます。
［適用分野］宇宙船の姿勢制御／レーザー追尾座標計測装置／液体の撹拌装置
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■□■ お知らせ ■□■
○広報誌（産総研TODAY：10/1発行）を掲載しました。
特集：レアメタル3
○産業技術総合研究所等の名称やロゴを使用した投資商品の勧誘に関する注意喚起
◆シリーズ：進化し続ける産総研のコーディネーション活動 [ PDF：1MB ]
第33回 バイオベンチャーを起業しよう
［関連情報］
共同研究・知財・技術相談に関してはこちらから
◇連携案内
◆「産総研TODAY」読者アンケートはこちらから
ご意見・ご感想をおまちしております！
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■□■ YouTube産総研チャンネル ■□■
産総研では、YouTube公式チャンネルにて様々な動画を公開しています。最新の
研究成果を、是非動画でもご覧ください！
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■□■ イベント ■□■
○第3回プラズマ医療・健康産業シンポジウム
開催日：2012年10月11日（月）13時 〜 17時
会場：産業技術総合研究所 関西センター（大阪府池田市）
参加費：無料
申込方法：オンライン登録
○第7回産総研レアメタルシンポジウム
開催日：2012年10月22日（月）13時 〜 17時
会場：石垣記念ホール（東京都港区）
参加費：無料 定員：180名
申込方法：オンライン登録、FAX 申込締切：10月12日（金）
○産総研オープンラボ2012「トップ講演会」
開催日：
2012年10月25日（木）13時30分 〜 14時30分
2012年10月26日（金）15時 〜 16時
会場：産業技術総合研究所 つくばセンター （茨城県つくば市）
参加費：無料 定員：400名
申込方法：オンライン登録 申込締切：10月18日（木）
○産総研オープンラボ2012「日本を元気にする産業技術会議」講演会
開催日：2012年10月25日（木）10時 〜 12時
会場：産業技術総合研究所 つくばセンター （茨城県つくば市）
参加費：無料 定員：400名
申込方法：オンライン登録 申込締切：10月18日（木）
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