独立行政法人産業技術総合研究所
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    メールマガジン [ 産総研 Topics! ] Vol.9 No.19
     −未来のビジネスヒントがここにある・・・−
                        2011/10/03
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■□■ 産総研オープンラボ2011 登録締切間近です! ■□■

  産総研オープンラボは、企業、大学、公的機関などの皆様のための催しです。全国
の研究拠点から集めた約340の研究テーマをパネル展示等でご説明するとともに、研
究室公開や特別講演会を行い、研究員自らがご案内いたします。また、産学官連携の
相談窓口を設置し、個別の具体的な連携のご相談やご質問にもお答え致します。是非
奮ってご参加ください。
 産総研オープンラボへの事前来場登録は10/11(火)17時まで、ラボ見学予約は
10/7(金)19時まで受付中です!

産総研オープンラボ2011公式サイト

YouTube産総研チャンネルにて、オープンラボに向けた理事長メッセージを公開
しています。
理事長メッセージ「2011オープンラボのご紹介」


■□■ プレスリリース ■□■

9/30発表◆
 印刷して作る柔らかい熱電変換素子
 −身の回りのわずかな温度差を電力に変換−
 《ポイント》
 ・印刷によりフレキシブルなフィルム基板上に熱電変換素子を形成する
 ・高い柔軟性をもつので、さまざまな形状の設置箇所に適用可能
 ・熱電変換素子のフレキシブル化、低コスト化で環境発電の普及促進に期待

9/28発表◆
 高性能な64kb強誘電体NANDフラッシュメモリーアレイを作製
 −次世代半導体不揮発メモリーの実用化へ前進−
 《ポイント》
 ・全ビット測定ができる高性能メモリーアレイの作製に初めて成功
 ・2日間の測定によりブロックレベルで良好なデータ保持特性を実証
 ・高密度大容量、高書き換え耐性、低消費電力の次世代半導体不揮発メモリーとして期待

9/27発表◆
 世界初の高品質ゲルマニウムプラットフォーム基板を実現
 −ゲルマニウム単結晶層のさまざまな基板への転写技術−
 《ポイント》
 ・高品質ゲルマニウム単結晶層の剥離と任意の基板への転写技術の開発
 ・容易に高性能ゲルマニウムデバイスと既存デバイスとの集積化、混載化が可能
 ・エレクトロニクスとフォトニクスを融合した新機能デバイスへの展開に期待

9/26発表◆
 シリコンチップの放熱特性評価技術の開発
 −ホットスポットからの熱の拡散を測定する方法−
 《ポイント》
 ・シリコンチップ上に生じる局所高温部(ホットスポット)熱分布の時間変化を測定する
 ・オンチップヒートスプレッダによるホットスポット低減効果を実証
 ・低消費電力で低発熱な3次元積層LSIシステムの実現に寄与

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■□■ 最近の研究成果 ■□■

産総研広報誌(産総研TODAY)から最近の研究成果を紹介します。
 ・RNA合成酵素の特異性を分子レベルで解明
 ・集積化全半導体超高速光ゲートスイッチ
 ・再生可能な新しいグリーン触媒
 ・高精度リニアエンコーダ標準の開発

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■□■ 特許紹介(技術移転) ■□■

非天然型糖鎖を酵素で簡便に合成
 ウイルスや細菌の感染および細菌毒素の侵入の多くに糖鎖が関与し、感染症研究、予防
治療対策研究では病原体―糖鎖間の相互作用解析が鍵の一つとなっています。この発明に
よって、糖鎖ユニットの中でも機能発現の鍵を握る単糖ユニットを複数もつ複雑な構造の
糖鎖群を簡便に合成できます。
 [適用分野]医薬品分野/ バイオ分野一般/ 化学分野一般

多層集束電極を備える一体型電界放出素子
 この発明は、マイクロメートルオーダーの微小な電子源と、電子ビームを収束させるため
のレンズ電極を一体的に形成する技術です。これまでメートルオーダーの大きさであった電
子顕微鏡をミリメートルオーダーまで小さくできるとともに、マイクロカラムを多数並べて
マルチビーム化することも可能です。
 [適用分野]電子顕微鏡/ マルチ電子ビームリソグラフィー/ ディスプレー・撮像デバイス

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■□■ お知らせ ■□■

産総研レポートを掲載しました(PDF:5.8 MB)

広報誌(産総研TODAY:10/1発行)を掲載しました。
 特集:本格研究 理念から実践へ

シリーズ:変化し続ける産総研のコーディネーション活動
  第22回 オープンイノベーションを加速するための技術移転

[関連情報]
 共同研究・知財・技術相談に関してはこちらから
 ◇連携案内

 ◆「産総研TODAY」読者アンケートはこちらから
  ご意見・ご感想をおまちしております!

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■□■ イベント ■□■

産総研オープンラボ
 開催日:2011年10月13日(木)〜14日(金)
 会 場:産業技術総合研究所 つくばセンター(茨城県つくば市)
 参加費:無料   申込方法:オンライン登録
 産総研オープンラボ2011公式サイト

第3回産総研マグネシウムシンポジウム
 開催日:2011年10月20日(木)12時50分〜16時35分
 会 場:ポートメッセなごや(愛知県名古屋市)
 参加費:無料   申込方法:オンライン登録(当日会場にて受付も可能)

第6回産総研レアメタルシンポジウム
 開催日:2011年10月24日(月)13時〜17時
 会 場:石垣記念ホール(東京都港区)
 参加費:無料   定員:180名
 申込方法:オンライン登録、FAX  申込期限:10月14日(金)