独立行政法人産業技術総合研究所
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    メールマガジン [ 産総研 Topics! ] Vol.9 No.13
     −未来のビジネスヒントがここにある・・・−
                        2011/07/01
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■□■ プレスリリース・主な研究成果 ■□■

6/30発表◆
 ゼーベック・スピントンネル効果を発見
 −温度差だけで電子スピン情報がシリコンに伝わる新現象−
 《ポイント》
 ・電子スピンが持つデジタル情報を加熱によってシリコン中に入力することに成功
 ・スピントロニクス技術とシリコンLSI技術を融合させた、電流を用いない新しい
  スピン注入法
 ・シリコンLSI中に生じる廃熱を再利用する新しいグリーンITが原理的に実現可能

6/22発表◆
 糖鎖の迅速プロファイリング技術でiPS細胞を精密評価
 −高密度レクチンアレイにより幹細胞に共通した糖鎖構造を確認−
 《ポイント》
 ・iPS細胞化により細胞表面の糖鎖構造がリプログラミングされる。
 ・未分化細胞(iPS細胞、ES細胞)に共通した新しい未分化糖鎖マーカーを発見
 ・iPS細胞の安全性評価に貢献することで、産業実用化の加速に期待

6/21発表◆
 夏季における計画停電の影響と空調節電対策の効果を評価
 −業務・家庭2部門のエアコンを始めとする最大電力需要を同時に評価−
 《ポイント》
 ・最大電力需要の3割を占める空調需要の要因である気温を地域別に予測
 ・都市気象−ビルエネルギー連成モデルによる気温上昇と空調需要増の悪循環を考慮
 ・業務と家庭の2部門を同時に計算することで全体の最大電力需要を評価

6/20発表◆
 金属箔を基板に用いた高効率フレキシブルCIGS太陽電池
 −集積型サブモジュールで光電変換効率15%を達成−
 《ポイント》
 ・ステンレス箔基板に対する絶縁層の新しい形成技術を開発
 ・集積型太陽電池モジュールのためのアルカリ添加制御技術を改良
 ・汎用性の高い低コスト材料を基板に用いた高性能太陽電池で応用範囲の拡大を期待

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■□■ 最近の研究成果 ■□■

産総研広報誌(産総研TODAY)から最近の研究成果を紹介します。
 ・睡眠障害改善に効果が期待されるハルミン
 ・薄さ0.5ナノメートルのゲート絶縁膜
 ・色素増感型太陽電池の新対極材料
 ・一次元回折格子のピッチ校正範囲を拡張

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■□■ 特許紹介(技術移転) ■□■

集積化パワーエレクトロニクス装置の統合設計法
 今回発明された次世代パワーエレクトロニクス装置(電力変換装置)の統合的な設計
法は、集積化され小型化がますます進む次世代電力変換装置の実現を可能にします。
 その結果、運輸、製造業だけでなく日々の生活の中で、電力変換装置を、いつでも、
どこでも活用することが可能になり、電力の有効利用の促進に役立ちます。
 [適用分野]電力変換装置分野/パワーIC、パワーモジュール分野/
       バーチャルプロトタイピング分野

分子配列型フォトニック結晶デバイス
 近年、情報技術、ナノテクノロジー分野において、誘電率の異なる2種以上の媒質を
組み合わせて人工的な多次元周期構造を構成したフォトニック結晶の研究が進み、これ
を用いた通信用・表示用の光学デバイスの実用化が進められています。
 当技術は、付加構造によって有機分子集合体の配列を制御することにより、フォト
ニック結晶を構成して、簡単かつ低コストに各種光学部品を作製する技術です。
 [適用分野]分子配列型デバイス/受動的な光部品/能動的な光部品

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■□■ お知らせ ■□■

広報誌(産総研TODAY:7/1発行)を掲載しました。
 特集:産総研が誇るナノカーボン・ナノチューブ関連研究
    座談会 産総研イノベーションスクールを経験して

シリーズ:変化し続ける産総研のコーディネーション活動
  第19回 産総研の知的財産を活用していただくために

[関連情報]
 共同研究・知財・技術相談に関してはこちらから
 ◇連携案内

 ◆「産総研TODAY」読者アンケートはこちらから
  ご意見・ご感想をおまちしております!

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■□■ イベント ■□■

平成23年度 産総研 環境・エネルギーシンポジウムシリーズ1「リスク削減時代の環境新技術」
 〜新たな有害物質規制に向けたグリーン・イノベーション〜
 開催日:2011年7月14日(木)10時30分〜17時30分
 会  場:文京シビックセンター(東京都文京区)
 参加費:無料   申込方法:オンライン登録

平成23年度自動車用軽量部材研究会講演会in広島
 開催日:2011年7月22日(金)13時30分〜17時30分
 会  場:広島YMCAホール(広島県広島市)
 定  員:100名(定員になり次第、受付を終了する場合があります。)
 申込方法:オンライン登録、FAX
 参加費:無料  申込締切:7月15日(金)

産総研つくばセンター一般公開
 開催日:2011年7月23日(土)9時30分〜16時
 会  場:産業技術総合研究所 つくばセンター(茨城県つくば市)

産総研関西センター一般公開
 開催日:2011年7月28日(木)9時45分〜16時30分
 会  場:産業技術総合研究所 関西センター(大阪府池田市)