独立行政法人産業技術総合研究所
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　　メールマガジン　[ 産総研 Topics! ]　Vol.8 No.21
　　　　　　−未来のビジネスヒントがここにある・・・−
　　　　　　 　　　　　　　 　　　　　　2010/11/01
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■□■　プレスリリース　■□■

10/25発表◆
　リチウムイオン二次電池用の新しい負極材料を開発
　−新規チタン酸化物で高容量化を実現−
　《ポイント》
　・ 低温合成プロセスによる新規チタン酸化物負極材料(H2Ti12O25)
　・ 現行の酸化物系負極材料と同程度の作動電圧を有し、容量30%アップを実現
　・ 構成元素としてリチウムを含まないためリチウムイオン二次電池の低コスト化
　　に期待

※お詫び※
　前号メールマガジンでご案内した、10/16発表「人間型ロボットの動作を簡単に
作成できる統合ソフトウエアを開発」のプレスリリース動画（YouTube）につきま
して、一時期閲覧できない状態となっておりました。
　ご迷惑をお掛け致しまして、大変申し訳ございませんでした。
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■□■　最近の研究成果　■□■

○産総研広報誌（産総研TODAY）から最近の研究成果を紹介します。
　・スピンRAMの大容量化を目指す垂直磁化TMR素子
　・調光ミラー薄膜を用いた水素ガスセンサー
　・レーザー走査超音波映像化探傷への空中探触子の適用
　・薄膜の熱拡散率を測定する新しい実用器を開発

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■□■　特許紹介（技術移転）　■□■

○金属と糖鎖を組み合わせて生体分子を検出
　現在、疾病マーカーといわれるタンパク質類や細胞類、直接の病原菌やウイルス
　などを簡単に瞬時に感度よく検出するための新しい方法が望まれています。
　今回発明した糖鎖修飾金属（あるいは半導体）微粒子は、微粒子表面に固定した
　糖鎖部分と検出したい分子やウイルスなどの間の親和性を利用し、微粒子の凝集反
　応や色調変化で目的分子を検出するものです。金属微粒子の性質によるセンサー応
　答を増強させる効果も合わせて期待できます。
　［適用分野］
　　※医薬品開発分野／バイオ分野一般／ナノテクノロジー分野

○二重絶縁ゲートMOSトランジスタを用いた回路
　この発明では、金属酸化膜半導体（MOS）集積回路のあるまとまった回路単位で、
　高速動作と、定常時または待機時における消費電力の減少を両立させることを目的
　とし、二重絶縁ゲート電界トランジスタを用いてこれを実現する手法を提案してい
　ます。
　この手法を用いると、高速動作で静的消費電力の小さな相補型金属酸化膜半導体
　CMOSトランジスタ回路、記憶メモリー素子（SRAM）セル回路、CMOS−SRAM
　セル回路、集積回路を実現できます。
　［適用分野］
　　※MOS集積回路

○産総研が保有する特許等の知的財産情報は
　「知的財産権公開システム（ＩＤＥＡ）」からご覧いただけます。

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■□■　お知らせ　■□■

○広報誌（産総研TODAY：11/1発行)を掲載しました。

◆シリーズ：進化し続ける産総研のコーディネーション活動
　　第１１回　地域センターにおける産学官連携

［関連情報］
　共同研究・知財・技術相談に関してはこちらから
　◇連携案内

◆「産総研TODAY」読者アンケートはこちらから
　ご意見・ご感想をおまちしております！

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■□■　イベント　■□■

○第4回 超高速フォトニクスシンポジウム
　開催日：2010年11月4日 (木)〜5日（金）
　会 場：早稲田大学 西早稲田キャンパス（東京都新宿区）
　参加費：無料　　　申込方法：Eメール（当日会場にて受付も可能）

○ジオネットワークつくば 第17回サイエンスカフェ 土木の日スペシャル
　「『地すべり災害』って何だろう？」
　開催日：2010年11月6日 (土) 13時〜15時
　会 場：独立行政法人 土木研究所（茨城県つくば市）
　参加費：無料　　　定員：40名（対象は小学校高学年以上）
　申込方法：オンライン登録、Eメール、FAX、電話
　　　　　　（空席がある場合は当日参加も可能）

○ワークショップ「ナノカーボン材料によるレアメタル対策技術の新展開」
　開催日：2010年11月13日 (土) 13時〜18時
　会 場：秋葉原コンベンションホール（東京都千代田区）
　参加費：無料　　　定員：70名
　申込方法：Eメール、FAX　　申込期限：11月10日（水）（定員になり次第締切）

○地質調査総合センター第16回シンポジウム
　「20万分の1地質図幅全国完備記念シンポジウム」
　−全国完備後の次世代シームレス地質図を目指して−
　開催日：2010年11月16日（火）13時〜17時50分
　会 場：秋葉原コンベンションホール（東京都千代田区）
　参加費：無料　　　申込方法：オンライン登録

○産総研テクノショップ in 九州
　開催日：2010年11月17日（水）13時30分〜17時
　会 場：KKRホテル熊本（熊本県熊本市）
　参加費：無料　　　定員：100名
　申込方法：オンライン登録、Eメール、FAX　　申込期限：11月5日（金）

○つくばチャレンジ2010
　開催日：2010年11月18日（木）〜19日（金）
　会 場：つくば中央公園周辺の公道（茨城県つくば市）

○産総研イベント情報は以下のURLでご覧いただけます。
　http://www.aist.go.jp/db_j/list/l_event_event_main.html