2/12発表◆
ヒストンシャペロンCIA/Asf1とヒストンH3, H4からなる複合体の
構造と機能
《ポイント》
全ての生命現象の根幹を担う遺伝子制御における概念的成果
2/27発表◆
ヒストンシャペロンTAF-Iβの構造と機能の関連性
《ポイント》
染色体を構成する基本単位であるヌクレオソーム構造変換に関与
する蛋白質ヒストンシャペロンTAF-Iβの構造解析と、点変異体を
用いた機能解析から、この蛋白質がどのようにDNAや他の蛋白質に
作用するかを知る手がかりを得た
2/23発表◆
小さな分子の形の変化を直接観察
《ポイント》
世界初の有機分子の構造の電子顕微鏡観察
分子の構造変化の動画撮影に成功
2/20発表◆
サイバー攻撃から大規模ネットワークを防御するシステムの実現
《ポイント》
1200種類の侵入・攻撃の検知ルールを10ギガbpsで連続処理する
ネットワーク侵入防御装置を開発
自動的な防御と漏れのない検知により、大規模ネットワークシス
テムの安全性が大幅に向上
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■□■ 最近の研究成果 ■□■
○産総研広報誌（AIST Today）から最近の研究成果を紹介します。
・分野融合が拡げる健康社会のための新技術
・ナノバイオテクノロジー分野の人材育成
・化合物プロファイリングに応用できる細胞チップ
・ストレス計測チップ：心の病の予防を目指す
・新しい蛍光検出器がかなえるバイオチップデバイスの小型化
・プロテオーム解析を推進するタンパク質チップ
・自己組織化膜を利用した心疾患マーカーセンサー
・新しい遺伝子治療用ベクターでより安全な遺伝子治療へ
・高機能ナノ空間を持ったスマートカプセル
・細胞のセンシングとマニピュレーション
・セルサージェリー：ナノスケールの針で細胞を操作する
・癌の転移診断技術の開発を目指して
・ナノアクチュエータとして使うモータータンパク質
・D-ホモセリンの簡便な製造法
・湿式ジェットミルを使用したスラリー調製に成功
・光ファイバパワー標準の開発
他
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■□■ 特許紹介（技術移転） ■□■
○塗膜形成によるシリカ厚膜の新製法
この新技術は、Si-C結合を含む物質を多く添加せずに、10マイクロ
メートルを超える厚膜を基板上に形成し、かつ基板との密着性・耐
熱性に優れた、シリカを主成分とする塗膜形成用材料を提供するも
のです。
［適用分野］
※様々な分野で用いられる各種基板（金属、ガラス、ポリマーほか）
への、緻密性・密着性のあるシリカ・ベース厚膜に適用できます。
ミクロ／メソ（あるいはナノ）構造の導入も可能と思われます。
○生分解性プラスチックの安全な着色技術
食用色素の利用で環境にやさしいプラスチックの用途拡大
［適用分野］
※食品包装用シート、容器類 ※日用雑貨 ※玩具
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■□■ お知らせ ■□■
○パンフレット
・第2種基礎研究を軸とした本格研究の展開［第4集］を掲載しました。
・「環境保全から環境創造へ」を掲載しました。
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■□■ イベント ■□■
○第3回 次世代バイオナノ研究会
日時：3/8（木）13:00〜16:30
会場：香川県高松市 産総研四国センター
参加費：無料
○新しい半導体デバイス技術のサステナビリティ俯瞰とそのアプローチ
−ポストシリコン・デバイスと将来加工プロセス研究−
日時：3/9（金）10:30〜17:30
会場：埼玉県さいたま市 埼玉大学総合研究機構
参加費：5,000円
○シンポジウム「統合化地下構造データベースの構築に向けて」
日時：3/9（金）10:00〜17:00
会場：茨城県つくば市 つくば国際会議場
参加費：無料
○福井未来技術創造セミナー「ビジネスに繋がる新素材加工技術」
産業技術総合研究所シーズフォーラム in 福井
日時：3/12（月）13:30〜17:30
会場：福井県福井市 福井ワシントンホテル
参加費：無料
申込締切：3/6（火）
○第2回セラミックリアクター開発シンポジウム
日時：3/14（水）10:00〜17:00
会場：東京都港区 浜松町東京會舘
参加費：無料
○2006年度実施研究プロジェクト報告会
日時：3/15（水）13:00〜17:00
会場：大阪府豊中市 産総研関西センター千里サイト
参加費：無料
申込締切：3/12（月）
○計算機言語談話会（CLC）3月16日
日時：3/16（水）13:30〜14:30、16:00〜17:30
会場：大阪府豊中市 産総研関西センター千里サイト
参加費：無料
○「糖鎖構造解析技術」プロジェクト成果報告会
日時：3/16（金）14:00〜17:50
会場：東京都港区 東京コンファレンスセンター
参加費：無料
○計算機言語談話会（CLC）3月22日
日時：3/22（木）16:00〜18:00
会場：大阪府豊中市 産総研関西センター千里サイト
参加費：無料
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