“高イオン化”スパッタリング技術(通称HiPIMS)について、主に日本国内外の研究者による先行的取り組み事例および成膜装置メーカーの技術開発動向を紹介。国内表面処理技術分野における新規イノベーションの創出と今後の技術開発・アプリケーション開発のためのネットワーク構築の場を提供することを大きな開催趣旨としています。
| 日時 | 2012年11月7日 水曜日 9時30分 〜 19時30分 |
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| 会場 | 地方独立行政法人 東京都立産業技術研究センター 本部 中2階東京イノベーションハブ 〒135-0064 東京都江東区青海2-4-10 |
| 主催 | 地方独立行政法 人東京都立産業技術研究センター 一般社団法人 表面技術協会 表面改質・硬化部会、材料機能ドライプロセス部会、電鋳・金型の表面処理研究部会 |
| 後援 | 産業技術総合研究所 他 |
| 参加費 | 無料 |
| 定員 | 100名 |
| 申込方法 | Eメール、FAX |
| 申込締切 | 10月31日 水曜日 |
| 問い合わせ先 | 地方独立行政法人 東京都立産業技術研究センター 事業化支援本部 技術経営支援室産業交流係 〒135-0064 東京都江東区青海2-4-10 電話：03-5530-2134 FAX：03-3252-3288 Eメール：  |
| プログラム、申込先、その他詳細情報 | 東京都立産業技術研究センター・表面技術協会三部会公開シンポジウム
「ドライプロセスの新潮流」 http://www.iri-tokyo.jp/kouryu/gakukyo/121107hyomen.html |
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