ピコメートル計測技術　ピコメートル領域の微小長さ測定のための光波干渉計測技術、位置決めのための微動機構の研究などを行っている。
　1980年代は精密さの代名詞がμmからnmへと急速に移り変わった時代といえよう．そのような高度の微細化，精密化が進行している産業分野の要求に応えるため，ナノメートル領域での寸法計測技術の高精度化に必要な要素技術の研究に着手し，以下の成果をあげた． ピコメートル計測の基礎となる光波干渉計はナノメートルレベルでは，さまざまの非線形誤差のため測定値の信頼性，直線性が劣化する．そこでフリンジの検出法や光学系の工夫を行い，サブナノメートルの測定を可能とする，数種類の干渉計を開発した。また干渉信号の直線性，再現性をＸ線干渉計を用いピコメートルレベルで検査した．これらにより，一般にnmが壁となっていた干渉計測の範囲をpmのオーダーまで広げることができた．　ピコメートルで物を移動させるための，精密微動案内については，金属の弾性変形を用いる基本技術を発展させ，雑音振動がpmレベルの移動台，原子レベルで走査できるＸＹ案内，多段平行ばねなどを開発した．

---

精密計測研ホームページに戻る